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工業(yè)CT是精密檢測(cè)的利器

工業(yè)CT是一種通過(guò)X射線技術(shù)對(duì)物體進(jìn)行非破壞性檢測(cè)的設(shè)備，具有分辨率高、速度快、精度高等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、航空、電子、機(jī)械等行業(yè)。本文將從它的應(yīng)用領(lǐng)域、使用方法和維護(hù)要點(diǎn)三個(gè)方面進(jìn)行介紹。一、應(yīng)用領(lǐng)域工業(yè)CT主要應(yīng)用于制造業(yè)和質(zhì)量控制等領(lǐng)域，可以對(duì)各種類(lèi)型的零部件進(jìn)行非破壞性檢測(cè)，例如發(fā)動(dòng)機(jī)、輪轂、齒輪、電子元器件等。此外，還可以用于3D打印、逆向工程、材料科學(xué)等領(lǐng)域，可以對(duì)材料的微結(jié)構(gòu)、成分、形貌等進(jìn)行高精度的檢測(cè)和分析。二、使用方法1.在使用之前，應(yīng)該了解被檢測(cè)物體的...

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微納CT：揭開(kāi)微小世界的神秘面紗

微納CT（Micro-ComputedTomography）是一種非侵入性三維成像技術(shù)，可用于獲取微小物體內(nèi)部的結(jié)構(gòu)和形態(tài)信息。它可廣泛應(yīng)用于生命科學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、工程學(xué)等領(lǐng)域。本文將介紹微納CT的工作原理、應(yīng)用領(lǐng)域、以及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。一、微納CT的工作原理微納CT的工作原理是通過(guò)利用X射線的穿透性，對(duì)微小樣品進(jìn)行掃描成像。它包括三個(gè)主要步驟：投影、重建和可視化。在投影階段，微小樣品通過(guò)微納CT掃描儀的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，通過(guò)X射線束的照射而產(chǎn)生一系列投影圖像。在重建階段，這些投...

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納米CT是指應(yīng)用于工業(yè)中的核成像技術(shù)

納米CT就是計(jì)算機(jī)層析照相或稱計(jì)算機(jī)斷層掃描成像。雖然層析成像有關(guān)理論的有關(guān)數(shù)學(xué)理論早在1971年由J.Radon提出，但只是在計(jì)算機(jī)出現(xiàn)后并與放射學(xué)科結(jié)合后才成為一門(mén)新的成像技術(shù)。在工業(yè)方面特別是無(wú)損檢測(cè)(NDT)與無(wú)損評(píng)價(jià)(NDE)領(lǐng)域更加顯示出其之處。納米CT是指應(yīng)用于工業(yè)中的核成像技術(shù)。其基本原理是依據(jù)輻射在被檢測(cè)物體中的減弱和吸收特性。同物質(zhì)對(duì)輻射的吸收本領(lǐng)與物質(zhì)性質(zhì)有關(guān)。所以，利用放射性核素或其他輻射源發(fā)射出的、具有一定能量和強(qiáng)度的X射線或γ射線，在被檢測(cè)物體中的...

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選購(gòu)工業(yè)CT應(yīng)先滿足技術(shù)要求

工業(yè)CT是一款大觀察視野、無(wú)損3DX射線微焦點(diǎn)計(jì)算斷層掃描系統(tǒng)，是一款能滿足多種3D表征和檢測(cè)需求的成像解決方案,不僅能夠在3D全景中展示完整大樣品的內(nèi)部細(xì)節(jié)，還能針對(duì)小樣品使用大的幾何放大倍數(shù)實(shí)現(xiàn)高分辨率和高襯度成像觀察細(xì)節(jié)特征。工業(yè)CT系統(tǒng)主要用于檢測(cè)產(chǎn)品缺陷、孔隙率、氣泡、裂紋、探傷、3D數(shù)模比對(duì)、逆向重塑、斷層掃描測(cè)量等應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。相比醫(yī)用CT，工業(yè)CT可完成：1、缺陷檢測(cè)、定位與特性描述2、各部件相對(duì)位置的確定3、確定物體的密度梯度，評(píng)價(jià)均勻性4、尺寸和公差的精密...

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計(jì)量CT能在對(duì)檢測(cè)物體無(wú)損傷條件下進(jìn)行檢測(cè)

計(jì)量CT能在對(duì)檢測(cè)物體無(wú)損傷條件下，以二維斷層圖像或三維立體圖像的形式，清晰、準(zhǔn)確、直觀地展示被檢測(cè)物體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)、組成、材質(zhì)及缺損狀況。計(jì)量CT部件的發(fā)展現(xiàn)狀輻射源射線源常用X射線探傷機(jī)和直線加速器。X射線機(jī)的峰值能量范圍從數(shù)十到450keV，且射線能量和強(qiáng)度都是可調(diào)的;直線加速器的射線能量一般不可調(diào)，常用的峰值射線能量范圍在1一16MeV。其共同優(yōu)點(diǎn)是切斷電源以后就不再產(chǎn)生射線，焦點(diǎn)尺寸可做到微米量級(jí)，甚至納米量級(jí)。探測(cè)器目前常用的探測(cè)器主要有高分辨CMOS半導(dǎo)體芯片、平...

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